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A-Z晶體及材料加熱爐系列樣品處理設(shè)備電池制備設(shè)備分析檢測(cè)設(shè)備其他實(shí)驗(yàn)室設(shè)備技術(shù)支持/服務(wù)培訓(xùn)

加熱爐設(shè)備
晶體及材料
破碎/球磨設(shè)備
壓片設(shè)備
輥壓設(shè)備
切割設(shè)備
磨拋設(shè)備
清洗設(shè)備
電池研發(fā)設(shè)備
薄膜制備
配件
其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備

熱處理設(shè)備: 管式爐箱式爐箱管混合

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加熱方式: 電阻加熱紅外燈管加熱感應(yīng)加熱微波加熱

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加熱形式: 常規(guī)爐立式箱管混合式回轉(zhuǎn)爐

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加熱溫度: 300-1200 1250-1500 1600-2000

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加熱溫區(qū): 單溫區(qū) 雙溫區(qū) 三溫區(qū) 多溫區(qū) 感應(yīng)加熱專用

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管徑: ф?25 ф?50 ф?60 ф?80 ф?100 ф?120及以上

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（150）. 管式爐自動(dòng)壓力保護(hù)系統(tǒng)
（107）.1.5L防腐高壓水熱反應(yīng)釜（鈦合金罐體、300℃可加熱、帶進(jìn)液裝置）
（149）.800℃快速熔融和淬火爐（液相熔體噴到Ga熔體中）
（140）.雙工位手套箱（帶冰箱制冷系統(tǒng)，大倉(cāng)可加熱200℃）
（129）.1200℃熔鹽電化學(xué)測(cè)試爐（腔體φ240 220mm，配70A直流電源）
（116）.小型氣流磨系統(tǒng)（帶旋風(fēng)分離系統(tǒng)，0.5-200kg hr）
（101）.1200℃三溫區(qū)管式箱式混合爐（900mm加熱區(qū)，針對(duì)棒狀材料）
（29）.1100℃電動(dòng)開啟式CVD系統(tǒng)（280mm石英管、觸摸屏控制、鉸鏈?zhǔn)椒ㄌm、數(shù)顯防腐真空計(jì)）
（152）.1500℃&10 Mpa小型熱等靜壓爐(樣品尺寸80IDx130H mm，配備滑動(dòng)安全防護(hù)罩)
（150）.管式爐自動(dòng)壓力保護(hù)系統(tǒng)
（146）.900℃開啟式高壓管式爐（Max.4.1Mpa @500℃，內(nèi)徑70mm）
（145）.1200℃雙連體HVPE系統(tǒng)
（141）.1500℃氫氣PECVD系統(tǒng)（500W射頻電源，自動(dòng)氫氣檢測(cè)控制系統(tǒng)）
（137）.1000℃小型箱混爐(箱式、管式二合一，100 100 100mm爐膛)
（124）.1700℃小型分體式蒸發(fā)鍍膜儀（針對(duì)碳&金屬材料，手套箱專用，配備觸摸屏）
（115）1600℃氫氣熱重分析管式爐
（108）1100℃微波加熱管式爐（可選25mm或50mm直徑爐管）
（102）1200℃手套箱配合管式爐（150mm管徑，開啟式爐體）
（143）氣液混合分散立式CVD系統(tǒng) (樣品平臺(tái)可加熱800℃，配分散噴頭)
（139）1200℃ 小型自動(dòng)下裝載爐（爐膛尺寸150×155×180mm） KSL-1200X-BS

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