- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
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- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設(shè)備
2英寸高真空加熱臺
- 關(guān)鍵字:
- 最高溫度可達1000℃
- 型號:
- HVHP-50
- 產(chǎn)品概述:
- HVHP-50是一款高真空的加熱臺,其直徑為2英寸(50.8mm).此產(chǎn)品設(shè)置主要是用作為加熱樣品臺,可選擇最高溫度為800℃或1000℃。用于DIY各種濺射儀或蒸鍍設(shè)備等等。
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本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網(wǎng)站不可預(yù)知的BUG可能會造成數(shù)據(jù)與實物的偏差,請勿復(fù)制或者截圖。如果您對參數(shù)有異議,或者想了解產(chǎn)品詳細信息及更多參數(shù),請與本公司銷售人員聯(lián)系。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,請勿將此參數(shù)用于招標文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
加熱元件?& 輸入功率
|
·可選購2種加熱元件 ·FeCrAl 合金絲: 最高溫度800oC ,功率400W ·鉬絲:最高溫度1000oC ,功率 800W ( 必須在真空或惰性氣體保護環(huán)境下使用,不適用于CVD/ALD等相關(guān)應(yīng)用中) ·輸入電壓: 0 - 35 VAC ,50/60Hz |
加熱臺
|
·儲存:78 mm OD x 85 mm H + .支撐桿 ( Φ10 mm x 62 mm L ) ·加熱均勻區(qū):Φ51 mm (+/- 5oC) ·加熱速率: 5oC/min ·熱電偶: K 型 |
溫控器
|
·可選購SCR溫度控制器 ·30 段升降溫程序 ·PID 方式調(diào)節(jié)溫度 ·控溫精度:+/-1℃ |
尺寸
|
|
重量
|
·1kg |
質(zhì)保期
|
·一年質(zhì)保期,終身維護 |
應(yīng)用
|
可用與DIY各種設(shè)備,如下圖 蒸鍍儀 冷壁CVD CSS爐 磁控濺射儀 ALD系統(tǒng) |
使用注意事項
|
·選用鉬絲作為加熱元件時,必須在真空或惰性氣體保護環(huán)境下使用,不適用于CVD/ALD等相關(guān)實驗中,以免反應(yīng)氣體損壞鉬絲 |
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