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Ge晶體基片
產(chǎn)品概述:
化學符號為Ge?,主要用途有:制作半導體器件、紅外光學器件及太陽能電池襯底。
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技術(shù)參數(shù)

晶體結(jié)構(gòu):

立方:a = 5.6754 ?;

生長方法:

提拉法;

密度:

5.765 g/cm3 

熔點:

937.4 ℃

熱傳導性:

640

摻雜物質(zhì):

不摻雜;摻Sb;摻Ga

類型:

/;N;P;

電阻率W.cm:

>35;0.05;0.05-0.1;

EPD:

<4x103/cm2;


產(chǎn)品規(guī)格

晶體方向: <111>,<100>and<110>± 0.5o 

標準尺寸:dia1"x 0.50 mm;dia2"x0.5mm;dia4"x0.5mm

(<110> Ra<5A,不化拋)

注:可按照客戶要求加工尺寸及方向。

標準包裝

1000級超凈室100級超凈袋或單片盒裝

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